รองศาสตราจารย์ปาพจน์ เจริญอภิบาล และคณะ
คณะวิศวกรรมศาสตร์ มหาวิทยาลัยขอนแก่น

คำขออนุสิทธิบัตร เลขที่คำขอ 2403000556 ยื่นคำขอวันที่ 28 กุมภาพันธ์ 2567

ฟิล์มบางไททาเนียมไดออกไซด์สามารถเตรียมได้หลากหลายวิธี หนึ่งในนั้นคือ วิธีการเตรียมฟิล์มบางโดยใช้กระบวนการสปัตเตอริง (Sputtering process) เป็นกระบวนการที่ใช้ผลิตไททาเนียมไดออกไซด์ในรูปของฟิล์มบางวิธีหนึ่งที่ใช้ในโรงงานอุตสาหกรรม เพราะมีกำลังการผลิตสูง สามารถควบคุมขั้นตอนหรือวิธีการผลิตเพื่อให้ได้ฟิล์มบางที่มีคุณสมบัติต่าง ๆ ที่ต้องการได้ง่าย โดยทั่วไปในอุตสาหกรรมจะใช้กระบวนการทางความร้อน (Thermal processes) โดยฟิล์มบางไททาเนียมไดออกไซด์ (Titanium dioxide thin film) จะถูกนำไปอบที่อุณหภูมิ 300-600 องศาเซลเซียส เพื่อเปลี่ยนโครงสร้างของฟิล์มบาง แต่มีข้อจำกัดคือ อุณหภูมิที่ใช้สูงมากทำให้ไม่สามารถนำไปประยุกต์ใช้กับอุปกรณ์ประเภทที่มีจุดหลอมเหลวต่ำได้ และการเพิ่ม-ลดอุณหภูมิสามารถทำให้อุปกรณ์หลายชนิดเกิดความเสียหายได้
ผู้ประดิษฐ์จึงได้พัฒนากระบวนการปรับโครงสร้างของฟิล์มบางให้เป็นโครงสร้างแบบผลึกแบบใหม่ ที่สามารถนำไปประยุกต์ในเชิงอุตสาหกรรมได้

- ใช้อุณหภูมิและเวลาที่ต่ำกว่าเมื่อเทียบกับการใช้กระบวนการอื่น ซึ่งเหมาะกับฐานรองที่ไม่สามารถทนอุณหภูมิสูงได้
- กระบวนการผลิตไม่ต้องนำฟิล์มบางออกมาจากภาชนะสุญญากาศ ซึ่งช่วยลดการปนเปื้อน ลดเวลา และลดต้นทุนการผลิตได้
- ฟิล์มที่ได้ตามกรรมวิธีนี้สามารถนำไปประยุกต์ใช้ได้กับผลิตภัณฑ์ที่หลากหลาย เช่น วัสดุโฟโตคะตาลิสต์ วัสดุป้องกันรังสียูวี เครื่องสำอาง สี ส่วนประกอบของเซลล์เชื้อเพลิง (fuel cell) เซลล์แสงอาทิตย์ (solar cell) เซ็นเซอร์ ระบบควบคุมมลพิษ การกำจัดของเสีย วัสดุเคลือบผิวที่มีความสามารถในการทำความสะอาดตัวเอง สารเคลือบกระจกมองข้างรถยนต์ เป็นต้น

เสาะหาผู้รับอนุญาตใช้สิทธิ

ได้ต้นแบบในระดับห้องปฏิบัติการ

เทคโนโลยีต่อรองราคา